Home / Sản Phẩm / Đo đạc, phân tích Vật liệu / Nghiên cứu và chuẩn đoán plasma / Hệ thống nghiên cứu Plasma ICP kết hợp máy phân tích năng lượng và khối lượng ion EQP

Hệ thống nghiên cứu Plasma ICP kết hợp máy phân tích năng lượng và khối lượng ion EQP

                     (Sản phẩm của hãng Hiden Analytical Ltd., UK)
Kết hợp phân tích năng lượng/khối lượng của tất cả thành phần trong các quá trình plasma RF:
+ Nghiên cứu kỹ thuật khắc ion hoạt động/plasma
+ CVD / PVD / MOCVD
+ Cải tạo bề mặt
+ Quá trình Plasma/Chân không
+ Khử trùng/làm sạch plasma
+ Cải tạo/chế tạo màng mỏng
+ Cải tạo/chế tạo composite

  • Tính năng nổi bật
  • Ứng dụng
 
Hệ thống nghiên cứu plasma Hiden tích hợp máy phân tích plasma cùng lò phản ứng RF – ICP với các tính năng:
+ Tế bào thạch anh hình trụ đường kính 100mm
+ Cuộn cảm biến đồng 4 vòng cùng thiết bị giảm nhiệt cuộn dây và bộ điều chỉnh cuộn 100mm
+ Máy phát điện 13.56MHz RF, điện năng lên đến 200W với mạch phối hợp
+ Màn hình RF (440 x 340 x 340 mm)
+ Làm mát bằng không khí, kiểm soát dòng chảy Dual tự động hoặc theo hướng dẫn
+ Bơm phân tử Turbo kép đa dạng cho nhiều hoạt động khác nhau
+ Áp kế điện dung và màn hình hiển thị áp suất tế bào
+ Máy phân tích plasma Hiden EQP 500 với dịch chuyển Z 100 mm hoạt động theo phần mềm MASsoft OF
+ Máy phân tích năng lượng/khối lượng dành cho các ion âm, ion dương, phân tử trung hòa và gốc tự do.

 

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *